展商快讯 | 德中（天津）精密装备有限公司确定参展CAC2023广州先进陶展，展位号：B625

日期：2023-05-11 浏览次数：次

展商快讯 | 珠海滢凯工业技术有限公司确定参展CAC2023广州先进陶展，展位号：B630

德中（天津）精密装备有(you)限公司，是一(yi)家以半导体、陶(tao)瓷薄膜电路加工技术、设备(bei)为核心(xin)，开发、生产以(yi)晶(jing)圆、陶瓷(ci)、铁氧体等(deng)为基材(cai)的(de)清洗(xi)、电镀、化学镀、化学蚀刻等湿法加工设备(bei)，如：晶圆凸(tu)点(dian)化学镀Ni/Pd/Au(UBM)设备、超声波清洗(xi)设备(bei)、电(dian)镀设备(bei)、光刻(ke)胶显影、除胶设备(bei)等。硬件技术(shu)(shu)、软件技术(shu)(shu)、应用经验，是(shi)德中的技术(shu)(shu)基础，将三者有机结合，综合运(yun)用，使德中精密装备(bei)走上了守中(zhong)报一的发展之路(lu)。德中(zhong)精(jing)密装备的设备(bei)，拥有(you)“窍门软件化，工艺经验产(chan)品化(hua)”的特色，凭借工(gong)艺(yi)经验、质量、环(huan)境(jing)、柔性、多(duo)功能五个(ge)方面的(de)优(you)势，不断地满(man)足高端制(zhi)造业(ye)和(he)前(qian)沿研(yan)发活(huo)动对材(cai)料精密加工、微细加工日益(yi)增(zeng)长的(de)需求。

展(zhan)出(chu)精品推(tui)荐(jian)1:德中CS系列 超声/兆声清洗(xi)设(she)备

1.产品要(yao)点：

28KHz-1MHz频(pin)率(lv)可选，拥有扫(sao)频(pin)、多频(pin)分时(shi)段清洗(xi)(xi)、多频(pin)率(lv)同时(shi)清洗(xi)(xi)等先进(jin)清洗(xi)(xi)技术，基板清洗(xi)(xi)更(geng)彻底；

2.性能特点：

陶瓷、铁(tie)氧体(ti)、玻璃、蓝宝石、硅(gui)片是常见的电子器件基(ji)板材料，德中CS系列的(de)超声(sheng)波(bo)/兆(zhao)声(sheng)波(bo)清洗(xi)设(she)备(bei)可(ke)在PVD、PCVD前，对这(zhei)些基(ji)(ji)板(ban)(ban)进行清洁处理，确保基(ji)(ji)板(ban)(ban)表(biao)面洁净无污染，确保金属镀层与基(ji)(ji)体的(de)结合力(li)。超声(sheng)、兆(zhao)声(sheng)、PVDF槽、水(shui)(shui)晶槽、不(bu)锈钢槽、QDR水(shui)(shui)洗(xi)、溢流(liu)水(shui)(shui)洗(xi)、脱(tuo)水(shui)(shui)等可(ke)根据客户要(yao)求定(ding)制。

德中(zhong)超声清洗(xi)设备可集成(cheng)如(ru)下清洗(xi)工艺(yi)：

— 强酸浸泡(pao)清洗(xi)；

— 有机溶剂(ji)超(chao)声清洗，如丙酮、酒精等(deng)；

— 超声酸洗功(gong)能；

— 超(chao)声碱洗功能；

— 水洗(xi)：如QDR快排(pai)水洗(xi)，溢(yi)流水洗(xi)等；

— 清(qing)洗液在线加(jia)热、N2在线加热等；

— 有(you)机溶剂挥发(fa)检测(ce)、防(fang)火/灭火装置；

— 清(qing)洗槽(cao)与线外桶(tong)直(zhi)接循(xun)环，新旧药液(ye)自动更替(ti)，24H生产。

德中(zhong)超声清洗设备其他功能：

— 清洗液自动配置(zhi)、排(pai)放、补加、更换(huan)功(gong)能;

— 溶(rong)液温度、处理(li)时间程序化控制；

槽体材质：PVDF\PTFE\PPH\不锈钢304-316等(deng)

展出精(jing)品推荐2：德中TP系列 电(dian)镀/电镀填孔设备

展商快讯 | 德中（天津）精密装备有限公司确定参展CAC2023广州先进陶展，展位号：B625

1.产品要(yao)点：

采用独特的射流技(ji)术，镀(du)层均匀(yun)性好(hao)，效率高，适(shi)合铜(tong)、镍、金(jin)、银、锡等多种(zhong)金(jin)属电镀(du)，同时适(shi)合晶圆凸点、陶(tao)瓷填孔电镀(du)；

2.产品介绍：

德中TP350/450/650系列(lie)电镀(du)(du)设备，采用独特的夹具设计，适合(he)陶瓷(ci)、铁氧体、玻璃等电子基板在PVD/PCVD后进行表面电镀(du)(du)金属加厚，液适合(he)晶圆(yuan)凸点电镀(du)(du)。可电镀(du)(du)铜、镍、金、锡、银等各种(zhong)金属；对于不同的金属镀(du)(du)层，厚度从0.5µm到300µm均可实现；软件(jian)提示半自(zi)动(dong)操(cao)作、行车全自(zi)动(dong)运行等操(cao)作模式，均可根据客户需求定制；直流(liu)电镀(du)(du)、直流(liu)脉冲电镀(du)(du)、反向脉冲电镀(du)(du)可选。

该(gai)设(she)备(bei)采用独特的射流技术进行电(dian)镀(du)，工(gong)件作为阴(yin)极，浸(jin)泡在(zai)电镀(du)液(ye)中的同(tong)时(shi)，电镀(du)溶液(ye)从左、右两侧(ce)强力喷射(she)向阴(yin)极，该设备(bei)也适合(he)在(zai)陶(tao)瓷、硅片(pian)等基板上(shang)进行(xing)填孔电镀(du)。射流电(dian)镀技术的优势(shi)：

n 阴极、阳极间离(li)子交换速度(du)更(geng)快，整槽内离(li)子浓度(du)更(geng)加均(jun)匀，完全(quan)消除浓差极化；

n 电流密(mi)度(du)更高(gao)(gao)，电镀(du)效率可提(ti)高(gao)(gao)30-40%；

n 孔(kong)(kong)内(nei)溶液(ye)交(jiao)换快，适(shi)合小孔(kong)(kong)、微孔(kong)(kong)、盲孔(kong)(kong)等(deng)板厚/孔径比大的(de)基板电镀，表面和(he)孔内(nei)镀层厚度(du)更趋一致；

n 基板前后摆动，配(pei)合(he)独(du)特的喷(pen)射(she)结构，整个基板表(biao)面、所有基板孔(kong)的喷(pen)射(she)效(xiao)果均(jun)匀、一致；

n 电(dian)镀(du)厚(hou)度均匀性＜ 10%；

n 可两面施加相同(tong)(tong)(tong)或不同(tong)(tong)(tong)的(de)电镀(du)(du)电流，两面镀(du)(du)层厚度一致或不同(tong)(tong)(tong)；

n 电镀液(ye)喷射流(liu)量可调，喷射系(xi)统距(ju)离(li)阴(yin)极距(ju)离(li)可调，适(shi)合陶瓷、HDI板(ban)等基板(ban)的填孔电(dian)镀。

展(zhan)出精品推荐(jian)3：德中(zhong)EU系列 化(hua)学蚀(shi)刻设(she)备

1.产品要点(dian)：

垂直(zhi)喷淋技术、浸(jin)泡+溢流+抛动技术。多(duo)种(zhong)蚀(shi)刻方式(shi)，适合不同厚度金(jin)属膜层。完全避免“水池效应”，精度高(gao)，侧(ce)蚀(shi)小，一致性好；

2.产品介绍：

一.喷淋蚀刻(ke)设备：EU450V

EU450V是一款垂(chui)直、喷淋(lin)、往复(fu)传动蚀(shi)(shi)刻(ke)设备，基板专用夹具带动陶瓷(ci)，垂(chui)直进入(ru)蚀(shi)(shi)刻(ke)区，被(bei)雾化(hua)的蚀(shi)(shi)刻(ke)液从(cong)前、后(hou)两(liang)侧同(tong)时喷淋(lin)腐蚀(shi)(shi)，再经过水洗(xi)、风干，完成(cheng)蚀(shi)(shi)刻(ke)；

n 两面(mian)同时蚀刻(ke)，两面(mian)效果(guo)均匀一致；

n 非(fei)接触、无(wu)(wu)阻挡(dang)式(shi)化学蚀(shi)刻设(she)备，整个蚀(shi)刻过程传动机构与陶(tao)瓷无(wu)(wu)物理接触，对光刻胶(jiao)、精细(xi)线(xian)路无(wu)(wu)损伤(shang)；

n 强力喷(pen)淋(lin)有利打破精(jing)细线(xian)路(lu)的“微观水池效(xiao)应”，更加适合精细线路蚀(shi)刻(ke)；

n 蚀(shi)(shi)刻液与(yu)基板接触发(fa)生(sheng)蚀(shi)(shi)刻反应后(hou)，由于自(zi)身(shen)重力自(zi)动脱离基板表(biao)面，完(wan)全避免了(le)水(shui)平(ping)上(shang)蚀(shi)(shi)刻中的(de)“水(shui)池效应”，整(zheng)板蚀刻效果一致，精(jing)度高，侧蚀小；

蚀刻(ke)方式(shi)分两种：

—直接蚀刻：基板(ban)进入蚀刻区前(qian)，蚀刻液喷淋(lin)，基板(ban)直接穿过蚀刻区；

—往复蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)：基(ji)板进入(ru)蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)区前蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)液(ye)不喷(pen)淋，当基(ji)板进入(ru)并停(ting)止在(zai)蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)仓中间，基(ji)板开(kai)始在(zai)蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)仓内左右摆(bai)动，同时(shi)蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)液(ye)开(kai)始喷(pen)淋。蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)时(shi)间可以很短，也可以很长(zhang)，非常适合超厚金属蚀(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)；

n 既(ji)能(neng)针对超薄金属的(de)蚀(shi)刻(ke)，又(you)能(neng)蚀(shi)刻(ke)超厚金属，小身材，大用处；

n 配置适合(he)陶瓷、FPC、微波电(dian)路板的专业夹(jia)具，适合多种应用(yong)；

占地小，投资回(hui)报率高。

展出精品推荐４：德中(zhong)DU系(xi)列(lie) 光刻胶显影(ying)设备

1.产品要(yao)点：

浸泡(pao)+溢流+抛动、浸(jin)泡+旋转(zhuan)技术可选。多(duo)种方式，适合多(duo)种光刻胶(jiao)显影(ying)；

2.产品(pin)介(jie)绍：

浸泡+抛动+溢流显影设(she)备(bei)：DU350/450/650

基(ji)板放(fang)置在显影盒中（与蚀刻盒通用），采用浸(jin)泡+溶液自下而上溢流+基板抛动方式(shi)进行蚀刻(ke)(ke)，适合多种光(guang)刻(ke)(ke)胶(jiao)显影(ying)，如TMAOH、NaOH等。

陶(tao)瓷、玻(bo)璃、晶圆等基板被固定在装载夹具上(shang)，基板可以(yi)是圆形(xing)，也可以(yi)是方形(xing)，2英(ying)寸-8英寸均适用。装载夹具浸泡在(zai)蚀刻溶液中(zhong)，显影液自上而下涌(yong)动、溢流，基(ji)板(ban)抛动。其特点(dian)是：

n 显影液在(zai)基(ji)(ji)(ji)板表(biao)面充(chong)分交换，保(bao)证新鲜的(de)蚀刻(ke)液与(yu)金属膜层发生蚀刻(ke)反应，每(mei)片(pian)基(ji)(ji)(ji)片(pian)、基(ji)(ji)(ji)片(pian)上每(mei)点蚀刻(ke)速度(du)一(yi)致；

n 基(ji)片(pian)装(zhuang)载(zai)夹具、槽体，均可(ke)采用316L/PTFE材质(zhi)；

n 一台设备(bei)中(zhong)可配(pei)置(zhi)多个显影槽，配(pei)合(he)水洗槽，可大大提高生产效(xiao)率；

n 显影(ying)槽(cao)设计有自动槽(cao)盖（选项），减少(shao)药液挥发；

n 显(xian)影槽(cao)(cao)底部设计(ji)有均流(liu)板，通(tong)过均流(liu)板显(xian)影液上涌，显(xian)影槽(cao)(cao)采周溢流(liu)方式，通(tong)过管路与线外(wai)桶连接；

n 不(bu)工作时显影(ying)液可存储在线(xian)外桶内，防止显影(ying)液遭(zao)受污染；

n 显影(ying)液的更换更加(jia)简单，直接更换线外桶(tong)即(ji)可；

n 可在(zai)不停产(chan)状(zhuang)态下更(geng)换显影(ying)液(ye)，实现7×24H连续生产；

n 药(yao)液涌动的(de)流速(su)、压力可调，确保均匀一致的(de)显影效果；

n 抛动行程可调，确保均(jun)匀一致的显影效果(guo)；

n 设备槽体(ti)、管路、阀(fa)门全部(bu)采(cai)用(yong)适合高纯液体(ti)的材质(zhi)和部(bu)件，确保不会污染工件；

n 可(ke)生成生产日志，所有(you)工件的工艺参数均(jun)可(ke)记(ji)忆(yi)、导出(chu)、备查，也可(ke)实现远程监控功能；

n 全自动设(she)备、软件提示手动操作(zuo)均可，适合不同的客户需求。

展出精品(pin)推荐(jian)5：德中SU系列 光刻胶除胶设备

1.产(chan)品要点：

浸泡+溢流+抛(pao)动、浸泡(pao)+旋转(zhuan)技术可(ke)选。多(duo)种(zhong)方(fang)式，适(shi)合(he)多(duo)种(zhong)光刻胶除胶；

2.产品介(jie)绍：

浸泡(pao)+抛动+溢流除胶(jiao)设备：SU350/450/650

基板放置(zhi)在清洗盒中（与蚀刻盒通用(yong)(yong)），采用(yong)(yong)浸泡(pao)+溶液自下(xia)而(er)上(shang)溢(yi)流+基板(ban)抛(pao)动方式进行除(chu)胶(jiao)，适合多种除(chu)胶(jiao)液，如(ru)丙酮、NaOH等。如用丙(bing)酮除胶(jiao)(jiao)，一般采用二步除胶(jiao)(jiao)法，以便能(neng)彻底(di)干净地将感光胶(jiao)(jiao)去除，工艺流(liu)程如下：

展商快讯 | 德中（天津）精密装备有限公司确定参展CAC2023广州先进陶展，展位号：B625

陶瓷、玻璃、晶圆(yuan)等基(ji)板被固定在装载(zai)夹具上，基(ji)板可(ke)以是(shi)圆(yuan)形，也可(ke)以是(shi)方形，2英寸-8英寸均适用(yong)。装(zhuang)载夹具浸(jin)泡(pao)在除胶溶液(ye)中，除胶液(ye)自上(shang)而下涌动、溢流，基(ji)板抛动。其特点是：

n 除胶液(ye)在基(ji)板(ban)表面充分交(jiao)换，保证新(xin)鲜的(de)除胶液(ye)与基(ji)板(ban)接触；

n 基片(pian)装载夹具、槽体，均可(ke)采用316L不锈钢加(jia)电(dian)解抛光处理；

n 一台设备中可配置2个除胶槽，配合水(shui)洗槽，可大大提高生产效率；

n 除胶槽(cao)设计(ji)有(you)自动槽(cao)盖（选项），减少药(yao)液(ye)挥(hui)发；

n 除(chu)胶槽底部(bu)设(she)计有均流板，通过均流板除(chu)胶液上涌，除(chu)胶槽采周(zhou)溢流方式，通过管(guan)路与线外桶连接；

n 不工作时除胶液可存储在线外(wai)桶内(nei)，防止除胶液遭受污染(ran)，也防止除胶液的挥发；

n 除胶液的更换更加(jia)简单(dan)，直接更换线外(wai)桶即可(ke)；

n 可在不停(ting)产状态(tai)下更换除胶液，实现7×24H连(lian)续(xu)生产；

n 药液(ye)涌动的流速、压力可(ke)调，确保(bao)均匀(yun)一致的除胶效果(guo)；

n 抛动(dong)行(xing)程可调，确(que)保均匀一致的除胶效果；

n 设备内部安装有(you)机物挥发浓度传感器(qi)，浓度超(chao)标会自动(dong)启动(dong)排风(feng)；

n 设(she)备内部安装火(huo)焰(yan)探测和灭火(huo)装置，发生火(huo)灾(zai)自动灭火(huo)；